講演情報
[14a-K306-10]商用オフ角付きSiC基板の残留歪み定量イメージング
〇木村 優太1、荒井 菜緒1、辻 直人1、渡邉 凌矢1、福澤 理行1 (1.京都工芸繊維大)
キーワード：
SiC、残留歪み、光弾性法
商用SiC基板の大口径化に伴い、光弾性法を用いた残留歪みの定量評価が重要となっているが、オフ角付き基板では自然複屈折が障害であった。今回、コリメート光学系と基板傾斜機構を用いて自然複屈折を抑制可能なイメージング型偏光計を開発し、商用オフ角付き4H-SiC基板を評価した。探査光が基板中でc軸に平行伝播するよう入射角を最適化することで、残留歪みの選択的定量イメージングに成功した。