講演情報

[14a-K507-6]Si(001)表面と界面の未結合手における協奏酸化反応

〇岡部 優希1、津田 泰孝2、Wen Hengyu1、吉越 章隆2、高桑 雄二2,3、小川 修一1 (1.日大生産工、2.原子力機構、3.東北大)

キーワード:

Si熱酸化、リアルタイムXPS、表面反応

本研究ではSi(001)表面酸化過程をXPSでリアルタイム観察し、ダイマーと空孔での酸化反応経路の競合過程を解明する。Loop Aではins/instri/ad、Loop Bではtri/tritri/adのペアがO2解離吸着で生じることが観察され、酸素吸着配向からもLoop AとLoop Bを識別できることが分かった。