セッション詳細
[14a-K507-1~9]CS.5 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア
2025年3月14日(金) 9:00 〜 11:30
K507 (講義棟)
[14a-K507-1]脂質二分子膜のLo/Ld相分離における基板との相互作用の影響
〇住友 弘二1、松本 大希1、大嶋 梓2、山口 真澄2、部家 彰1 (1.兵庫県立大工、2.NTT物性基礎研・BMC)
[14a-K507-2]原子状水素アニールによる高分子電解膜の表面改質
〇部家 彰1、北山 育暉1、住友 弘二1 (1.兵庫県立大工)
[14a-K507-3]2点架橋したAβ 2量体を基準としたAFMによるオリゴマーの構造解析
〇原田 力1、松井 温哉1,2、入江 由美3、内野 歩美3、筑後 文馨3、藤井 洸太朗1、細井 克馬1、中西 章夫1、景山 裕介1、成瀬 延康1、塚野 千尋3、入江 一浩3,4、目良 裕1 (1.滋賀医大、2.天理よろづ相談所病院、3.京大農、4.同志社大)
[14a-K507-4]Ag薄膜上偏析ゲルマネンの初期酸化過程の走査トンネル顕微鏡観察
〇勝部 大樹1,2、柚原 淳司3、金 有洙2、鈴木 誠也4 (1.(一財)ファインセラミックスセンター、2.理研、3.名大院工、4.原子力機構)
[14a-K507-5]低速原子散乱分光法による KBr (111)表面の観察
〇福田 浩昭1、譚 ゴオン1、梅澤 憲司1、吉本 護2 (1.大阪公立大学、2.東京科学大学)
[14a-K507-6]Si(001)表面と界面の未結合手における協奏酸化反応
〇岡部 優希1、津田 泰孝2、Wen Hengyu1、吉越 章隆2、高桑 雄二2,3、小川 修一1 (1.日大生産工、2.原子力機構、3.東北大)
[14a-K507-7]Si(111)表面酸化における初期減速と自己加速
Wen Hengyu1、津田 泰孝2、岡部 優希1、吉越 章隆2、高桑 雄二2,3、〇小川 修一1 (1.日大生産工、2.原子力機構、3.東北大)
[14a-K507-8]O2ON-OFF切り替えによるSiO2/n-Si(001)界面酸化反応の加速
〇津田 泰孝1、吉越 章隆1、岡部 優希2、WEN Hengyu2、小川 修一2、髙桑 雄二1,3 (1.原子力機構、2.日本大学、3.東北大学)
[14a-K507-9]ベイズ推定による酸化シリコン表面のSi 2p XPS解析
〇篠塚 寛志1、永田 賢二1、吉川 英樹1、小川 修一2、吉越 章隆3 (1.NIMS、2.日大、3.原子力機構)