講演情報
[14a-K507-7]Si(111)表面酸化における初期減速と自己加速
Wen Hengyu1、津田 泰孝2、岡部 優希1、吉越 章隆2、高桑 雄二2,3、〇小川 修一1 (1.日大生産工、2.原子力機構、3.東北大)
キーワード：
Si熱酸化、リアルタイムXPS、表面反応
本研究ではSi(111)表面酸化のリアルタイムXPS観察から、膜厚、酸化速度、 Si酸化状態、歪みSi原子、バンドベンディングの変化に加え、酸素吸着配向の情報から急減速／自己加速の反応機構を検討する。自己加速酸化領域で酸素吸着配向のinsが減少しtri/adが増加することから、Si酸化による体積膨張と吸着熱が一次反応では点欠陥発生、０次反応ではSi-O結合切断をもたらし、そのとき出現する未結合手でのO2解離吸着モデルを提案する。