[14a-K507-1~9] CS.5 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア

11:00 〜 11:15

[14a-K507-8] O₂ON-OFF切り替えによるSiO₂/n-Si(001)界面酸化反応の加速

〇津田 泰孝¹、吉越 章隆¹、岡部 優希²、WEN Hengyu²、小川 修一²、髙桑 雄二^1,3 (1.原子力機構、2.日本大学、3.東北大学)

キーワード：

シリコン、酸化、X線光電子分光