講演情報
[14a-K507-9]ベイズ推定による酸化シリコン表面のSi 2p XPS解析
〇篠塚 寛志1、永田 賢二1、吉川 英樹1、小川 修一2、吉越 章隆3 (1.NIMS、2.日大、3.原子力機構)
キーワード：
ベイズ推定、統計解析、シリコン表面酸化
X線光電子分光法（XPS）を用い，シリコン酸化プロセス中に計測したSi 2pスペクトルをベイズ推定で解析した．この手法は初期値依存を軽減し，グローバルな最適解を探索可能である．これにより熟練者と同等の自動解析に成功し、各スペクトルのピーク数やピーク位置を事後分布から推定し、酸化過程の各ピーク成分の変化を明瞭に観察することができた．