[14p-K306-1~3] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

14:00 〜 14:15

[14p-K306-3] シリコン結晶中の低濃度炭素の測定/第二世代(30)赤外吸収のinner phonon band対策、液体窒素温度測定

〇井上 直久¹、奥田 修一¹、川又 修一¹ (1.大阪公大 放射線研究センター)

キーワード：

シリコン結晶、炭素濃度、赤外吸収

赤外吸収は炭素濃度測定の唯一の実用かつ研究用の方法で、液体窒素温度測定は70年代から実用に用いられ国際規格がある。我々は主に室温で10¹⁴/㎝³までの測定法を確立し公開してきたが、フォノン吸収が重なる問題がある。低温吸収では半値幅が狭まりフォノン吸収が重ならないことを詳細に明らかにし10¹⁴から10¹³/㎝³までの高精度測定を可能とした。検出下限IDLは1，SDLは2x10¹³/㎝³。ポリも可能。