2025年第72回応用物理学会春季学術講演会
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講演情報

16:15 〜 16:30

[14p-K403-12]ダイヤモンドへの高濃度Bイオン注入による低抵抗層形成

〇(M1)今村 海哉1、関 裕平1、星野 靖1 (1.神奈川大理)

キーワード：

イオン注入、Hall効果、ダイヤモンド半導体

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