講演情報
[14p-K406-4]In-situ微小角入射二次元X線回折による低温成長ペンタセン薄膜における構造再配列の評価
〇松原 亮介1、井櫻 泰雅1、竹内 雄賀2、渡辺 剛3、吉本 則之2、久保野 敦史1 (1.静大院総合、2.岩手大院総合、3.JASRI)
キーワード：
ペンタセン、真空蒸着、微小角入射X線回折
平板上あるいは直鎖上の有機分子を真空蒸着する際、基板温度を低温にして成膜することで平行配向薄膜やアモルファス薄膜が成長する。しかし分子配向の評価は成膜後に基板温度を室温に戻してから行う必要があり、室温に戻す過程で分子の再配列が起きている可能性もある。本研究では、SPring-8でのIn-situ 微小角入射二次元X線回折により低温でのペンタセン薄膜成長と昇温過程における構造変化をリアルタイムに評価した結果について報告する。