セッション詳細

[14p-K406-1~15]12.1 作製・構造制御

2025年3月14日(金) 13:00 〜 17:15
K406 (講義棟)

[14p-K406-1]T字型π共役分子の合成と結晶構造、トランジスタ特性

〇(M1)田 秀悟1、横倉 聖也1,2、和泉 廣樹1,2、島田 敏宏1,2 (1.北大院総化、2.北大院工)

[14p-K406-2]共有結合性有機構造体膜の有機蒸気透過機能

〇(D)加藤 将貴1、和泉 廣樹1,2、横倉 聖也1,2、島田 敏宏1,2 (1.北大院総化、2.北大院工)

[14p-K406-3]カーボンナノチューブを含有したHKUST-1単結晶の合成と基礎物性の評価

〇(B)猪又 雄兵1、柴原 理沙2、鄭 雨萌1、木下 健太郎1 (1.東理大理、2.日本ゼオン)

[14p-K406-4]In-situ微小角入射二次元X線回折による低温成長ペンタセン薄膜における構造再配列の評価

〇松原 亮介1、井櫻 泰雅1、竹内 雄賀2、渡辺 剛3、吉本 則之2、久保野 敦史1 (1.静大院総合、2.岩手大院総合、3.JASRI)

[14p-K406-5]極薄膜イメージングのための有機単分子膜を用いた無反射基板の作製

〇服部 吉晃1、北村 雅季1 (1.神戸大院工)

[14p-K406-6]Emission properties of J-aggregates in molecularly-oriented bisazo dye films

〇(DC)Jian Yu1,2, Atsuya Muranaka3, Masamitsu Ishitobi4, Hirohito Umezawa5, Masanobu Uchiyama3, Yutaka Yamagata2, Toshihiko Tanaka2, Shinya Matsumoto1,2, Tetsuya Aoyama2 (1.Yokohama National Univ., 2.RIKEN RAP, 3.RIKEN CSRS, 4.Central Glass Co., Ltd., 5.Nat. Inst. Tech, Fukushima College)

[14p-K406-7]配列ポリテトラフルオロエチレン表面における線形ビスアゾメチン色素分子のニ座的な原子溝エピタキシ

〇田中 利彦1,2、石飛 昌光3、青山 哲也1 (1.理研、2.福島高専、3.セントラル硝子)

[14p-K406-9]LB法とインターカレーション法を用いるハロゲン化鉛系有機無機層状ハイブリッドペロブスカイト超薄膜の作製(VI)

〇三浦 康弘1、赤城 嘉也1、下迫 直樹2、青山 哲也3、竹岡 裕子4 (1.浜松医大医、2.静岡大、3.理研RAP、4.上智大理工)

[14p-K406-10]多層有機コーティングによる窒化ホウ素の表面改質

〇会田 和輝1、稲里 幸子1、濱田 貴裕1、細川 鉄平1、齊藤 輝彦1 (1.パナソニックホールディングス(株))

[14p-K406-11]導電性高分子の微細立体構造の構築と電磁気的応用

〇(M1)鈴木 歩1、山田 勝実1 (1.東工芸大院工)

[14p-K406-12]ポリフッ化ビニリデンにおけるBaTiO3フィラーの凝集形態及び電気的特性と厚膜作製時のプレス角度依存性

〇(B)上田 智輝1、岡田 岳穂1、高木 優香1 (1.東理大)

[14p-K406-13]3元共重合P(VDF-TrFE-CFE)薄膜の誘電率変調

〇沖田 裕介1、河野 真也1、日高 芳樹1、岡部 弘高1、木口 拓也2、疋田 育之2、石田 謙司1 (1.九大院工、2.(株)デンソー)

[14p-K406-14]強磁場下配向液晶性エポキシモノマーの熱拡散率異方性

〇中川 栞1、丸井 莉花1、亀垣 柊二1、劉 芽久哉2、荒岡 史人3、早川 晃鏡1、森川 淳子1 (1.東京科学大、2.産総研、3.理研)

[14p-K406-15]誘起スメクチック液晶相の薄膜作製

和泉 優希1、〇丸山 伸伍1、神永 健一1、松本 祐司1 (1.東北大院工)