[14p-K507-1~17] CS.5 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア

15:00 〜 15:15

[14p-K507-8] 超音速分子ビームを用いたSi(111)-(7×7)表面と塩化メチルの反応過程解明

〇安藤 雅晃¹、牧野 隆正¹、津田 泰孝²、吉越 章隆²、岡田 美智雄^1,3 (1.大阪大院理、2.原子力機構、3.大阪大放射線機構)

キーワード：

Rochow-Müller反応、ケイ素、塩化メチル

シリコーン合成反応に使われるジメチルジクロロシランは、CH₃Cl/Si/Cuの3体が関わる複雑な触媒反応で得られる物質であり、反応選択性を高めるために素過程を理解することが重要である。超音速塩化メチル分子線をSi(111)-(7×7)表面へ照射した状態を放射光Ⅹ線光電子分光法で測定したところ、CH₃Cl/Cu系と異なる反応を示した。発表では、より詳細に吸着過程を議論する予定である。