セッション詳細
[14p-K507-1~17]CS.5 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア
2025年3月14日(金) 13:00 〜 18:00
K507 (講義棟)
田川 雅人(神戸大)、 吉越 章隆(原子力機構)、 光原 圭(コベルコ科研)、 津田 泰孝(日本原子力研究開発機構)
[14p-K507-2]SiCの表面近傍のカソードルミネッセンスのアニール依存性
〇(M1)井垣 翔1、堀江 里茉1、石原 綾子1、大野 智子1、小池 徳貴1、武田 さくら1 (1.奈良先端大)
[14p-K507-4]エピタキシャルSnO2薄膜/r-Al2O3における選択的酸素空孔制御による熱電性能向上
〇石部 貴史1,2、成瀬 延康3、目良 裕3、中村 芳明1,2 (1.阪大院基礎工、2.阪大OTRI、3.滋賀医科大)
[14p-K507-5]ナノ構造界面制御したZnO薄膜の出力因子増大機構の解明
〇(D)小松原 祐樹1、石部 貴史1,2、成瀬 延康3、佐藤 和則4、小林 英一5、中村 芳明1,2 (1.阪大院基礎工、2.阪大OTRI、3.滋賀医大、4.阪大院工、5.九州シンクロトロン光研究センター)
[14p-K507-6]Direct Imaging of the p-n Interface in Semiconductor Devices by Operando Energy-Resolved Photoemission Electron Microscopy
〇(P)Elizaveta Pyatenko1, Shunsuke Nozawa1, Keiki Fukumoto1 (1.KEK IMSS)
[14p-K507-7]SPring-8 BL46XUの大気圧硬X線光電子分光法による帯電抑制効果の検討
〇西原 達平1、髙木 康多1、安野 聡1、Seo Okkyun1 (1.JASRI)
[14p-K507-8]超音速分子ビームを用いたSi(111)-(7×7)表面と塩化メチルの反応過程解明
〇安藤 雅晃1、牧野 隆正1、津田 泰孝2、吉越 章隆2、岡田 美智雄1,3 (1.大阪大院理、2.原子力機構、3.大阪大放射線機構)
[14p-K507-10]二酸化チタン表面の酸素欠損の構造認識と配列解析
-認識法の改良による解析改善-
坪倉 奏太1,2、河野 翔也3、今井 弓子4、上田 正4、中本 圭一4、野間 春生1,2、日置 尋久1、〇湊 丈俊4 (1.京大人環、2.立命大情報理工、3.九工大、4.分子研)
[14p-K507-13]炭化パラジウムの電子状態・構造・表面反応性に関する理論計算
〇(M1)松山 快1、多田 幸平1、山口 渉1、水垣 共雄1、岸 亮平1、北河 康隆1 (1.大阪大学)
[14p-K507-14]Investigating Diamond Tool Wear in Iron Machining by Machine Learning Molecular Dynamics Simulation
〇(D)BaoAnh NguyenTrinh1, John Isaac G. Enriquez1, Harry Handoko Halim1, Hiroyuki Ogiwara2, Takahiro Yamasaki2, Masato Michiuchi2, Tamio Oguchi3, Yoshitada Morikawa1 (1.Department of Precision Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita, Osaka, 565-0871, Japan, 2.Advanced Materials Laboratory, Sumitomo Electric Industries, Ltd, Itami, Hyogo, 664-0016, Japan, 3.Center for Spintronics Research Network (CSRN), Osaka University, Toyonaka, Osaka 560-8531, Japan)