セッション詳細

[14p-P02-1~20]6.4 薄膜新材料

2025年3月14日(金) 13:30 〜 15:30
P02 (森戸記念体育館)

[14p-P02-1]ミストCVD法によるCu薄膜の作製とその特性

〇(M1)岡田 達樹1、大橋 亮介1、安岡 龍哉、川原村 敏幸1,2、Htet Su WAI1,2 (1.高知工科大学、2.総研)
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[14p-P02-2]ミスト化学気相成長法による二元銅化合物半導体薄膜の合成

〇庄田 伊吹1、岡 大地1、廣瀬 靖1 (1.都立大院理)
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[14p-P02-3]ペロブスカイト型人工超格子薄膜(LaTiO2N)n/(GdTiO2N)nの強誘電性および微視的構造の評価

〇水越 邦斗1、重松 圭2、岡 大地1、廣瀬 靖1 (1.都立大院理、2.Science Tokyo フロンティア研)
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[14p-P02-4]Effect of Post deposition Annealing on Fe3O4 Thin Film Deposited via Electron Cyclotron Resonance Sputtering

〇(D)Jannatul Ferdousy1, Yingshu Ma1, Md. Faysal Kabir1, Md Tauhidul Islam1, Masashi Akabori1 (1.Japan Advanced Institute of Science and Technology)
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[14p-P02-5]金属有機化合物分解法(MOD法)によるHfxZr1-xO2のゲート絶縁膜作製と構造評価

〇(BC)武本 凌河1、高瀬 寛士1、中澤 斗翔1、北村 太慈1,2、楯 凱貴1,2、河野 裕太1,2、小池 一歩1,2、廣芝 伸哉1,2 (1.大阪工大・工、2.大阪工大・ナノ材研)
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[14p-P02-6]MOD法で作製したBi置換希土類鉄ガーネットの仮焼成膜の経時変化

〇神郡 啓吾1、河原 正美2、中澤 俊1、Fatima Zahra Chafi1、西川 雅美1、石橋 隆幸1 (1.長岡技大、2.高純度化学)
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[14p-P02-7]Enhanced Photoelectrochemical Performance Using Nanostructured Tungsten Oxide Thin Films Deposited by Pulsed Laser Deposition

〇(D)Qi Xue1, Shogo Kodate1, Shin Kajita1 (1.The Univ. of Tokyo)
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[14p-P02-8]相変化デバイス高性能化のためのN添加によるSb3Te相変化材料の熱安定性向上

〇(M1)吉本 匠汰1、矢矧 俊祐1、美内 睦美1、尹 友1 (1.群馬大理工)
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[14p-P02-9]OドープGeTe/Sb2Te3多層膜相変化材料の開発

〇美内 睦美1、松田 和希1、吉本 匠汰1、澤井 英志1、尹 友1 (1.群馬大)
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[14p-P02-10]成膜温度に依存したMnTe薄膜の結晶性評価

〇新井 イサム1,2、粟津原 奨太1,2、桑原 正史2、奈良崎 愛子2、沖村 邦雄3、片野 諭1 (1.東洋大理工、2.産総研、3.東海大学)
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[14p-P02-11]UHVスパッタエピタキシー法による六方晶ZnSnN2層の成長(IV)

〇堀越 快人1、長澤 俊輝1、吉田 圭佑1、篠田 宏之1、六倉 信喜1 (1.東京電機大工)
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[14p-P02-12]B添加In2O3フレキシブル透明導電膜におけるフレキシブル性の基板依存

〇(B)矢崎 結也1、木菱 完太1、辛 佳和1 (1.工学院大工)
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[14p-P02-13]Ceドープ水素化酸化インジウム(ICO:H)薄膜の高温アニール特性

〇工藤 晃哉1,2、陳 家驄1、前田 辰郎1 (1.産総研、2.千葉大学)
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[14p-P02-14]SrLiH3エピタキシャル薄膜の組成調査

〇(B)石橋 悠磨1、福士 英里香1、下萬 祐暉1、間嶋 拓也2、原田 尚之3、大口 裕之1 (1.芝浦工大工、2.京大院工、3.物材機構)
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[14p-P02-15]赤外レーザー蒸着法を用いた高品質SrH2薄膜の合成

〇(B)河原 幸生1、中野 匡規1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大工、2.物材研)
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[14p-P02-16]酸化物固溶体のH2還元によるfcc型Ni1-xFexエピタキシャル薄膜の作製

〇(M1)山中 悠生1、河村 和哉1、金子 智2,1、松田 晃史1 (1.東京科学大物質理工、2.KISTEC)
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[14p-P02-17]グラファイト上の立体規則性オリゴチオフェンの自己集積化における臭素置換基の役割

〇高城 大輔1、松本 幸三2、須藤 孝一3 (1.阪大理、2.専大自然、3.阪大産研)
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[14p-P02-18]FeドープITOエピタキシャル成長膜の電気・光学・磁気特性のFeドープ量依存性

〇角 卓実1、北川 彩貴1,2,3、栗原 悠花1、中村 敏浩1,2 (1.京大院人環、2.京大ILAS、3.日本学術振興会(DC))
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[14p-P02-19]複合酸化物ガスバリア膜の緻密性と均一性の評価

〇山王堂 尚輝1、森藤 亨1、佐藤 誠1 (1.東レ株式会社)
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[14p-P02-20]大電力パルスマグネトロンスパッタリングを用いたルチル型酸化チタンの低温成膜

〇太田 貴之1、西村 美優紀1 (1.名城大理工)
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