講演情報

[14p-P02-5]金属有機化合物分解法(MOD法)によるHfxZr1-xO2のゲート絶縁膜作製と構造評価

〇(BC)武本 凌河1、高瀬 寛士1、中澤 斗翔1、北村 太慈1,2、楯 凱貴1,2、河野 裕太1,2、小池 一歩1,2、廣芝 伸哉1,2 (1.大阪工大・工、2.大阪工大・ナノ材研)

キーワード:

強誘電体、誘電体


コメント

コメントの閲覧・投稿にはログインが必要です。ログイン