[14p-P03-1~18] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[14p-P03-18] 基底状態原子支援化学気相堆積法によるシリコン酸化膜への熱処理効果に関する検討

〇山本 英明¹、鹿田 颯吾¹、古川 雅一²、若原 昭浩¹、岡田 浩¹ (1.豊橋技科大、2.アリエースリサーチ有限会社)

キーワード：

窒化ガリウム、シリコン系絶縁膜、化学気相堆積法