講演情報
[15a-K301-1]RFマグネトロンスパッタリング法による MoS2薄膜の結晶性と熱伝導率の関係
〇北澤 辰也1、稲葉 雄大1、山下 俊介1、今井 慎也2、黒原 啓太2、辰巳 哲也2、若林 整2、冨谷 茂隆3,1,2 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.東京科学大、3.奈良先端大)
キーワード：
遷移金属ダイカルコゲナイド、熱伝導率、光熱ラマン法
本研究では、膜厚数nmのMoS2薄膜における硫黄原子欠陥と結晶性が熱伝導率に与える影響を調査した。断面STEMおよびXRDの結果、SVA処理後のMoS2薄膜においてS/Mo比と結晶子サイズが増加したことが明らかになった。また、光熱ラマン法より、SVA処理後のMoS2薄膜の面内熱伝導率は処理前に比べて少なくとも1桁向上したことが確認された。SVA処理により、薄膜の硫黄欠陥が補完され、結晶性が改善したことで、面内熱伝導率が向上したことが分かった。