講演情報
[15a-K303-6]Mn4−xPdxN薄膜のエピタキシャル成長と磁気特性評価
〇(B)秋田 宗志1、安田 智裕1、雨宮 健太2、末益 崇1 (1.筑波大、2.高エネ研)
キーワード：
窒化物、フェリ磁性、スピントロニクス
SrTiO3(001)基板上に膜厚25nm程度のMn4-xPdxNエピタキシャル薄膜（x = 0.00–0.50）を分子線エピタキシー法で作製した。そして、室温での結晶性と磁気特性および磁気構造を評価した。ω–2θ XRDとRHEEDの測定結果から全ての組成のおいてエピタキシャル成長に成功した。飽和磁化、異常ホール角度の組成依存性から、磁化補償組成は0.1≦x≦0.15であることを明らかにした。X線磁気円二色性測定からPdの添加により、ノンコリニア磁性が発現し、磁気構造が変化したと考える。