講演情報

[15a-K310-6]Si(111)基板上Al/Geエピタキシャル層からの偏析による極薄Ge形成

〇奥田 太一1、大田 晃生2、横川 凌3,4,5、黒澤 昌志1、坂下 満男1、中塚 理1、柴山 茂久1 (1.名大院工、2.福岡大理、3.広大RISE、4.広大院先進理工、5.明大MREL)

キーワード:

ゲルマニウム、ナノシート、偏析


コメント

コメントの閲覧・投稿にはログインが必要です。ログイン