[15a-K503-1~9] 6.1 強誘電体薄膜

10:15 〜 10:30奨励賞エントリー

[15a-K503-6] マスクレスコンビナトリアルPLD法によるSc添加AlN薄膜の作製とその特性評価

〇(M1)三高 大陽¹、Yuan Xueyou¹、山田 智明^1,2 (1.名大工、2.東京科学大MDX)

キーワード：

窒化アルミニウム、パルスレーザー堆積法