講演情報
[15a-K509-4]スピンコート中の液膜流れの効率的予測法
〇(M1)山岡 晃太朗1、澤田 康一2、高嶋 太一2、髙木 義徳2、佐野 雄大3、猿渡 健2、池内 崇3、白鳥 英1 (1.都市大、2.株式会社SCREENホールディングス、3.株式会社SCREENアドバンストシステムソリューションズ)
キーワード：
半導体、ウェハ洗浄、液膜流れ
半導体製造工程のウェハ洗浄における液膜流れのシミュレーション方法について報告する。高速回転するウェハ上に吐出ノズルを走査しながら洗浄液を塗布する工程では、VOF法等の一般的な二相流シミュレーションは非効率である。これを解決する方法として、潤滑近似によって方程式を低次元化するアプローチと、Physics Informed Neural Networks (PINNs)によって支配方程式を機械学習する方法を提案する。提案手法の有効性について実験結果との比較を通じて議論する。