講演情報
[15a-P06-9]マイクロモルフセルにおけるプラズマ化学蒸着法を用いたSiNx膜によるARコート
〇足立 零生1、Paula Perez Rodriguez2、Govind Padmakumar2、Federica Saitta2、Arno Smets2、和田 裕之1 (1.科学大物質理工、2.デルフト工科大学)
キーワード：
窒化ケイ素、反射防止膜、プラズマ励起化学気相成膜
マイクロモルフセルの反射ロスの低減、変換効率の向上を目的として、PECVD法を用いてSiNxの成膜を行った。成膜条件を最適化することで、ガラス基板とIOH層の屈折率差を補完する薄膜を作製した。各薄膜の屈折率や光学特性、耐久性試験の結果を基に、目的に適した薄膜が得られることを確認した。本研究の成果は、マイクロモルフセルの高効率化および、太陽電池におけるARコート膜の設計に関する重要な知見を提供する。