講演情報
[15p-K310-3]高圧下における非晶質Ge/SiO2の金属誘起横方向成長
〇(B)光永 尚人1、菊本 翔太1、中原 大葉1、野中 華輝1、高倉 健一郎1、角田 功1 (1.熊本高等専門学校)
キーワード：
金属誘起横方向成長
近年, 金属触媒を用いた横方向固相成長が広く研究されており, 今回は, 高圧環境下で非晶質Ge薄膜の金属横方向成長について調査した. 熱処理時の圧力上昇に伴い, 高圧下で熱処理を行うことで結晶成長が促進されることが分かり, 成長距離を熱処理時間の関数として整理すると熱処理時の圧力を0.6MPaまで上昇させることで横方向成長距離が約2.5倍まで拡大することが分かった.