講演情報
[15p-K404-17]化学増幅型レジストSU-8の架橋反応による熱拡散率変化
〇(B)内藤 知岳1、森岡 亮太1、劉 芽久哉2、Vygantas Mizeikis3、森川 淳子1 (1.東京科学大、2.産総研、3.静岡大)
キーワード：
熱拡散率、フォトレジスト、レーザー直接描画
SU-8を始めとした化学増幅型レジストは高アスペクト比の微細構造形成において重要な材料であるが、熱的特性の観点からプロセスの最適化を検討した例は少ない。そのため本研究では、紫外線照射量を変化させたSU-8構造体を3次元レーザー直接描画技術を用いて作成し、AFMプローブ熱電対を用いた温度波熱分析法(TWA法)によって測定し、得られた測定結果からSU-8の架橋構造形成過程のモデルを考察した。