講演情報
[15p-P12-22]負極フリーLIB応用のためのミストCVD法によるCu(Al)上アモルファスTiOx界面の評価
〇豊嶋 奏1、佐藤 知正1,2、白井 肇2,3、松木 伸行1,2、曽根 宏隆3、栗原 英紀4、山本 孔明5、大野 俊典5 (1.神奈川大工、2.神奈川大工研、3.埼玉大理工研、4.埼玉県産業技術総合センター、5.（株）天谷製作所)
キーワード：
リチウムイオン電池、ミストCVD、酸化物
負極フリー全固体Li電池の実現を目標とするため、ミストCVD法で合成したアモルファスTiOx負極を銅とアルミ基板上に成膜し、充放電特性を評価した。その結果、Cu基板上のクーロン効率は充放電サイクルにより94～96%に低下した。一方、Al基板は50回の充放電サイクル後もほぼ100%の安定性を示した。本研究では、Cu基板とAl基板がTiOx/Cu(Al)界面に及ぼす影響について、微細構造およびLi拡散の解析結果を基に報告する。