講演情報
[15p-P12-29]Mist CVD法で作製したZnMgO薄膜の成膜温度変化による膜内組成への影響
〇大橋 亮介1、岡田 達樹1、ヘテット ス ワイ1、川原村 敏幸1,2 (1.高知工大、2.総研)
キーワード：
ZnMgO、Mist CVD
太陽電池やディスプレイへ利用されている透明電極などへの応用が期待されているZnMgO薄膜をMist CVD法により作製し, 成膜温度の変化が及ぼす膜内組成や結晶性等への影響を調査した. 実験発表ではXRD, 透過率測定, EDSなどの測定結果を元に本研究の調査結果及び考察について述べる.