講演情報
[16a-K103-5]光学干渉非接触温度測定法(OICT)を用いた極低温環境下におけるシリコンウェハ表面温度のリアルタイム測定
〇(M2)後藤 隆之介1、花房 宏明1、東 清一郎1 (1.広大先進理工)
キーワード：
温度測定、極低温
近年, 半導体製造において,ウェハ温度を極低温で管理する新しいプロセスが開発されており,極低温域において非接触で温度を測定可能な手法の確立が求められている.我々はウェハの温度変化に伴う反射光の干渉を利用するOICTを開発し,シリコンウェハ表面温度のリアルタイム測定に成功した.本研究では従来検証が出来ていなかった極低温領域におけるOICTリアルタイム測定に取り組み, 熱電対指示値との比較を行った.
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