[16a-K202-1~6] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術

10:00 〜 10:15

[16a-K202-2] Mo(CO)₆を用いたMo-ALDプロセスの低抵抗化と反応機構解析

〇(M2)小原 聡顕¹、山口 潤¹、佐藤 登¹、筑根 敦弘¹、霜垣 幸浩¹ (1.東大院工)

キーワード：

Mo原子層成長プロセス、Mo(CO)6、N2H4