[16a-K202-1~6] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術 | 2025年第72回応用物理学会春季学術講演会

セッション詳細

シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術

2025年3月16日(日) 9:30 〜 12:00

K202 (講義棟)

9:30 〜 10:00

〇久保井信行¹ (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ)

10:00 〜 10:15

〇(M2)小原聡顕¹、山口潤¹、佐藤登¹、筑根敦弘¹、霜垣幸浩¹ (1.東大院工)

10:15 〜 10:30

〇(M2)田中潤¹、山口潤¹、佐藤登¹、筑根敦弘¹、霜垣幸浩¹ (1.東大院工)

10:30 〜 10:45

〇洲崎慧¹、鈴木晴登²、宮澤諒²、山本有紀³、尾池浩幸³、海老原良介³、池村周也³、後藤玄³、岩永宏平³、廣瀬文彦² (1.山形大工、2.山形大院理工、3.東ソー)

11:00 〜 11:30英語発表

Hae Lin Yang¹, Gyeong Min Jeong¹, i-Hyeon Kwon¹, Min Chan Kim¹, 〇Jin-Seong Park¹ (1.Hanyang University)

11:30 〜 12:00

〇深沢正永¹ (1.産総研　SFRC)