[16a-K202-1~6] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術

11:30 〜 12:00

[16a-K202-6] Area-Selective Depositionを併用した超高選択Atomic Layer Etching技術

〇深沢 正永¹ (1.産総研　SFRC)

キーワード：

半導体、原子層エッチング、プラズマ