講演情報

[16a-K207-2]グラフェン/六方晶窒化ホウ素/グラフェン ヘテロ接合型深紫外検出器

〇福島 昌一郎1、深町 悟2、嶋谷 政彰1、岩川 学1、吾郷 浩樹2、小川 新平1 (1.三菱電機(株)、2.九大総合理工)

キーワード:

グラフェン、六方晶窒化ホウ素、深紫外

光ゲート効果は光増感材料の電気特性変化を用いる、グラフェン光検出器の有効な高感度化手法である。我々はこれまでに、深紫外領域において六方晶窒化ホウ素 (h-BN) を用いて光ゲート効果を発現させた高感度深紫外検出器について報告している。本研究ではグラフェンでh-BNを挟み込んだヘテロ接合型の深紫外検出器について報告する。
h-BNの下部と上部それぞれにグラフェン電界効果トランジスタ (GFET) を形成した。
波長260 nmの深紫外光への応答を評価したところ、ゲート電圧をh-BN経由で印加する上部GFETでのみ、明瞭な深紫外光応答を測定できたことから、h-BNによる光ゲート効果の発現を確認した。