講演情報
[16a-K305-1]UVナノインプリントリソグラフィによるシリコンフォトニック回路作製技術の開発
〇永松 周1、雨宮 智宏1、森 莉紗子2、藤井 恭2、浅井 隆宏2、岡田 祥3、渥美 裕樹4、塩田 大2、向 立昕1、西山 伸彦1 (1.科学大工、2.東京応化、3.情報通信研、4.産総研)
キーワード：
ナノインプリントリソグラフィ、シリコンフォトニクスプロセス
ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は、露光波長に依存しない解像度と大面積転写性、高スループットを有することから、半導体プラットフォームにおける次世代リソグラフィ技術の一つとして期待されている。本研究では、シリコンフォトニクスプロセスに適したNIL用 の光硬化性樹脂の開発や、ロールオンプロセスの最適化の実施により、従来のCMOS 試作ラインや電子線描画を用いて作られた光導波路と同程度の性能を得ることに成功した。