講演情報
[16a-K305-5]二硫化アンチモン薄膜へのレーザー直描を用いた光導波路の作製
〇田鍋 衛1、柳 柱栄1、牧野 孝太郎2、畑山 祥吾2、トープラサートポン カシディット1、高木 信一1、竹中 充1 (1.東大工、2.産総研SFRC)
キーワード：
相変化材料、二硫化アンチモン、レーザー
相変化材料は結晶相とアモルファス相で屈折率などの光学特性が大きく異なる。相変化は加熱や光学的刺激によって可逆的に引き起こすことが可能である。これを利用し、レーザー照射による書き換え可能な光回路が提案されている。我々は、毒性の低い Sb2S3 を用いてレーザー照射による直線導波路の作製および評価を行った。