講演情報
[16a-K308-3]アモルファスシリコン酸化膜中のシリコンナノ結晶形成に関する分子動力学シミュレーション
〇田村 玄汰1,2、後藤 和泰3,4,5、宇佐美 徳隆5、徳増 崇2 (1.東北大院工、2.東北大流体研、3.新大院自然科学、4.新大IRCNT、5.名大院工)
キーワード：
分子動力学法、酸化シリコン、シリコンナノ結晶
近年，比較的厚いSiOx膜に対しても良好なパッシベーション性能と導電性を両立した構造が開発された．本構造は，a-SiOx中にSi NCが埋め込まれた構造であるが，熱処理中のパラメータがSi NCに与える影響が未解明である．本研究では、a-SiOxをアニールし結晶化させる計算を行った。その結果、酸素濃度を高くするほど，Si NCが成長するまでの時間は長くなり成長速度は遅くなることが確認された．