講演情報
[16a-K308-7]硬X線光電子分光法を用いたTiOx電子コンタクト/ Si界面における金属電極成膜効果の解析
〇深谷 昌平1,5、後藤 和泰1,2,3、西原 達平4、齋 均5、黒川 康良1,6、宇佐美 徳隆1,6,7、松井 卓矢1,5 (1.名大院工、2.新潟大工、3.新潟大 IRCNT、4.JASRI、5.産総研、6.名大未来機構、7.名大未材研)
キーワード：
パッシベーション、酸化チタン、シリコン太陽電池
近年、ALD法で成膜したTiOxがc-Si太陽電池の電子コンタクト層として注目され、高い変換効率が報告されている。しかし、Al成膜によるパッシベーション性能低下が課題であり、その詳細は十分に解明されていない。また、LiFをTiOxとAl間に挿入する手法が提案されているが、そのメカニズムは未解明である。本研究では、硬X線光電子分光法を用いて厚いAl層下のTiOxの化学結合状態を解析し、Al成膜による性能低下の要因やLiF層の効果を調査した。