[16p-K202-1~12] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術

13:30 〜 14:00

[16p-K202-1] 汎用ニューラルネットワークポテンシャルを用いた半導体製造プロセスにおける表面反応解析

〇松本 皓太¹、佐藤 真¹、浅野 裕介¹ (1.(株)PFCC)

キーワード：

半導体製造プロセス、表面反応解析、計算化学

近年、半導体製造技術の微細化に伴い、製造プロセスにおける原子レベルでの反応理解の重要性が高まっている。本講演ではALD(Atomic Layer Deposition)プロセス、ALE(Atomic Layer Etching)およびウェットエッチングなどの半導体製造プロセスに焦点を当て、汎用原子レベルシミュレータMatlantisを用いた反応解析事例を紹介する。