[16p-K202-1~12] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術

15:45 〜 16:00英語発表

[16p-K202-7] Adsorption state study of Trimethylaluminum using neural network potential

〇Yuxuan Wu¹, Jun Yamaguchi¹, Noboru Sato¹, Atsuhiro Tsukune¹, Yukihiro Shimogaki¹ (1.The University of Tokyo)

キーワード：

Atomic layer deposition、Density Function Theory、Trimethylaluinum