[16p-K202-1~12] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術

16:00 〜 16:15英語発表

[16p-K202-8] Computation of Al₂O₃ ALD by trimethylaluminum with Kinetic Monte Carlo and neural
network potential

〇Yichen ZOU¹, Yuxuan Wu¹, Jun Yamaguchi¹, Noboru Sato¹, Atsuhiro Tsukune¹, Yukihiro Shimogaki¹ (1.The Univ. of Tokyo)

キーワード：

atomic layer deposition、Kinetic Monte Carlo、Trimethylaluminum