[16p-K202-1~12] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の解析技術と応用技術

16:15 〜 16:30奨励賞エントリー

[16p-K202-9] 室温原子層堆積法を用いた連続吸着方式におけるジンクアルミネート成膜の実証及び評価

鈴木 晴登¹、〇宮澤 諒¹、竹田 響綺¹、洲崎 慧¹、大西 凌二¹、廣瀬 文彦¹ (1.山形大院理工)

キーワード：

原子層堆積法、複合酸化膜、連続吸着