講演情報
[16p-K203-3]ALDによる高誘電酸化物薄膜作製への化学的アプローチ<o:p></o:p>
〇松尾 保孝1、西田 章浩1,2 (1.北大電子所、2.（株）ADEKA)
キーワード：
原子層体積、高誘電
原子層堆積法を用いた高誘電材料の酸化物薄膜作製に関して、新たな液体の有機金属錯体原料を合成して成膜を行った。その結果、良好な誘電特性をえられたことから工業的に実用性のある原料であることを示した。また、既存の材料に比べて成膜プロセスの温度帯を広げる等、化学的なアプローチがALDプロセスの改善につながることを示す。