講演情報
[16p-K401-9]HVPE成長Si添加ホモエピタキシャルAlNの発光特性
〇秩父 重英1、菊地 清1、Moody Baxter2、三田 清二2、Collazo Ramon3、Sitar Zlatko2,3、熊谷 義直4、石橋 章司5、上殿 明良6、嶋 紘平1 (1.東北大多元研、2.Adroit Materials, Inc.、3.North Carolina State University、4.東京農工大院工、5.産総研CD-FMat、6.筑波大数物)
キーワード:
窒化物半導体、窒化アルミニウム、陰極線蛍光発光測定
AlGaN深紫外LEDの発光内部量子効率向上には、禁制帯内に深い準位を形成する再結合中心(MGRC)の濃度低減が必須である。AlNの場合Al空孔(VAl)とN空孔(VN)の空孔クラスタだけでなくVAlと不純物の複合体もMGRCとなることが示唆されており、不純物と点欠陥双方の低減が必要である。本発表では、物理気相輸送成長c面AlN基板にHVPE成長させた低転位密度・低CN濃度Si添加AlNのカソードルミネッセンス及び陽電子消滅測定結果を報告する。
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