講演情報
[16p-K504-10]スパッタＷ膜形成時の内部応力in-situ観測による成長機構解析
〇中川 茂樹1、横澤 諒1、飯田 大介1、高村 陽太1、中光 豊2、清田 哲司2 (1.Science Tokyo、2.ULVAC)
キーワード：
内部応力、膜形成、in-situ観測
W膜をスパッタ成膜する際の島状構造から連続膜へ遷移する臨界膜厚や連続膜形成後の有効内部応力の評価を行うことで，種々のプロセス条件が膜成長機構に与える影響を考察した。島状構造から連続膜構造への遷移を示す臨界膜厚はスパッタガス圧の増加とともに増加した。また連続膜成長時に現れる有効内部応力もガス圧の上昇とともに引張性応力成分が大きくなる。