セッション詳細
[16p-K504-1~15]6.4 薄膜新材料
2025年3月16日(日) 13:00 〜 17:00
K504 (講義棟)
[16p-K504-1][第57回講演奨励賞受賞記念講演] 二次元ZnOナノシートの完全選択合成と高速紫外光センシング特性
〇松村 竜之介1、風間 勇太1、斉藤 光2、安井 隆雄3、松尾 保孝1,4、奈須 滉1,5、小林 弘明1,5、岡 紗雪1,4、Narathon Khemasiri6、蓬田 陽平1,4、長島 一樹1,4 (1.北大総化院、2.九大先導研、3.東京科学大生命理工、4.北大電子研、5.北大理、6.NANOTEC)
[16p-K504-2][分科内招待講演] InN MOVPE成長におけるTMIn分解反応過程の理論的研究
〇長嶋 佑哉1、渡邉 浩崇2、新田 州吾2、草場 彰3、寒川 義裕3、白石 賢二1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.九大応力研)
[16p-K504-3]有機原料を用いたALD法によるWS2薄膜成長(Ⅱ)
〇横田 浩1、東 奏太1、町田 英明2、石川 真人2、須藤 弘2、若林 整3、澤本 直美1,6、横川 凌4,5,6、小椋 厚志1,6 (1.明治大理工、2.気相成長株式会社、3.東京科学大、4.広島大RISE、5.広島大院先進理工、6.明大MREL)
[16p-K504-4]Al2O3基板とCaO犠牲層を用いた強誘電BaTiO3自立膜の作製
〇陳 荻文1、Zhou Weikun1、三津谷 怜1、太田 裕道2、片山 司2,3 (1.北大情報科学院、2.北大電子科学研究所、3.JSTさきがけ)
[16p-K504-5]水素化した窒化ニオブ単結晶薄膜の合成と超伝導特性
〇(M1)平出 悠士1、相馬 拓人1、吉松 公平1、大友 明1 (1.科学大物質理工)
[16p-K504-6]WO3薄膜の透過率変化を用いた水素バリア膜の性能評価
〇栗原 大芽1、鈴木 舞乙1、金 旼奭1、山田 恭太郎2、待永 広宣2、重里 有三1 (1.青学大理工、2.日東電工(株))
[16p-K504-7]複合成膜手法により成膜された低屈折率Al2O3薄膜の構造と不均質の関係
〇(M2)鈴木 智晃1、室谷 裕志1、松平 学幸2 (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)
[16p-K504-8]引張歪みを導入したCuI薄膜におけるシフト電流観測
〇松田 優馬1、中村 優男2、川崎 雅司1,2 (1.東大院工、2.理研CEMS)
[16p-K504-9]屈折率傾斜モノマテリアルコーティングの積層技術の基礎研究
〇(M1)楊 宇航1、田島 直弥1、松平 学幸2、室谷 裕志1 (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)
[16p-K504-10]スパッタW膜形成時の内部応力in-situ観測による成長機構解析
〇中川 茂樹1、横澤 諒1、飯田 大介1、高村 陽太1、中光 豊2、清田 哲司2 (1.Science Tokyo、2.ULVAC)
[16p-K504-11]アモルファス酸化物薄膜のレーザー照射による結晶化機構の解明
〇(M1)GUO DONGYANG1、佐藤 舞起1、片山 慶太1、田中 洋平2、薮田 久人1,2 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトンNextGLP)
[16p-K504-12]Structures and dielectric properties of ultrathin ZrO2 freestanding membranes
〇Yufan Shen1, Kousuke Ooe2,3, Kazuki Shitara2, Shunsuke Kobayashi2, Takeshi Yoshimura4, Tomoaki Yamada5, Yuichi Shimakawa1, Kan Daisuke1 (1.Kyoto Univ. ICR, 2.JFCC, 3.Monash Univ, 4.Osaka Metropolitan Univ, 5.Nagoya Univ)
[16p-K504-13]LPE法により作製したLi6.5La3Zr1.5Ta0.5O12エピタキシャル薄膜の自立化の試み
〇川口 昂彦1、森谷 真夕1、坂元 尚紀1、脇谷 尚樹1 (1.静大院工)
[16p-K504-14]マイクロ波加熱を利用した TiO2/ITO二層構造膜の形成と色素増感太陽電池への応用
〇竹田 敦哉1、伊藤 優飛1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)
[16p-K504-15]非平衡二次元プラズマを用いた多孔質TiO2層の形成と色素増感太陽電池への応用
〇山下 一也1、溝口 清人1、西川 大輔1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)