講演情報
[16p-K504-11]アモルファス酸化物薄膜のレーザー照射による結晶化機構の解明
〇(M1)GUO DONGYANG1、佐藤 舞起1、片山 慶太1、田中 洋平2、薮田 久人1,2 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトンNextGLP)
キーワード：
透明導電膜、レーザーアニール、結晶化
透明導電膜として広く利用されているITO薄膜は、電気炉等でアニール処理することでアモルファス状態から結晶化し性能が向上する。本研究では、基板への熱影響を抑え基板表面のみを加熱するために高繰り返し照射が可能なKrFエキシマレーザーを用いてアニール処理を行った。レーザーの照射回数、繰り返し周波数、およびフルエンスを変化させることで、薄膜の結晶状態を制御できた。結晶状態などについて、学会当日発表予定である。