講演情報
[16p-K504-9]屈折率傾斜モノマテリアルコーティングの積層技術の基礎研究
〇(M1)楊 宇航1、田島 直弥1、松平 学幸2、室谷 裕志1 (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)
キーワード：
光学薄膜、反射防止膜、SiO₂
本研究は、電子ビーム (EB : Electron beam) 蒸着法とDC (DC : Direct current) パルススパッタリング法を組み合わせた成膜手法で、充填密度の異なる SiO₂ を積層し、屈折率傾斜のモノマテリアル 反射防止膜を作製する技術を確立することを目的としている。