[16p-K506-1~19] 3.6 レーザープロセシング

18:00 〜 18:15

[16p-K506-18] 液滴の出ないPLD法によるハイドロキシアパタイト成膜

〇屋代 英彦¹、高島 浩¹、大村 秀樹¹、欠端 雅之¹、川越 大輔² (1.産総研ー電子光、2.小山高専)

キーワード：

PLD法、ハイドロキシアパタイト、バンドギャップ

PLD成膜において液滴の発生は成膜の品質を下げる。そのため、液滴除去の方法が適応されるが成膜レートを下げる。アブレーションレーザーの選択で液滴が出ない成膜が実現できれば問題の解決につながる。そのため、ターゲット材料のハイドロキシアパタイト及び3リン酸カルシウムの光学特性、バンドギャップを評価し、Nd:YAGレーザー第４高調波、ArFエキシマレーザーの２種類の波長の異なるレーザーでのアブレーション粒子を評価した。その結果、ターゲット材のバンドギャップと同等の光子エネルギーをもつArFエキシマレーザーでは液滴が放出せず、光子エネルギーの低いNd:YAGレーザーでは必ず液滴が放出する結果が得られた。