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[16p-K507-9]重元素と軽元素の同時分析のための2.1 MeVプロトンビームを用いた窒化ハフニウム薄膜の窒素組成評価

〇大住 知暉1、後藤 康仁1 (1.京大院工)

キーワード:

窒化ハフニウム、窒素組成分析、非ラザフォード後方散乱法

窒化ハフニウム(HfN)薄膜の窒素組成を2.10 MeV H+を用いた非ラザフォード後方散乱法(n-RBS)により評価し、1.63 MeV H+による評価と比較した。どちらのエネルギーでも同様に窒素組成を評価できることが分かった。HfNに他の重元素を添加した場合、n-RBSと同時にPIXEを用いれば同時に窒素と重元素を分析できる。PIXEの感度向上のためには, H+のエネルギーは高いほうが好ましいため、窒素と重元素の同時分析のためには2.10 MeV H+を用いればよいことが考えられる。