講演情報
[16p-P02-3]a-C:F薄膜の極低温合成と表面改質に関する研究
〇菅野 拓海1、北原 広貴1、篠塚 郷貴2、寺澤 章裕3、佐藤 哲也1 (1.山梨大工、2.山梨大・機器分析センター、3.山梨県産業技術センター)
キーワード：
薄膜、F-DLC、極低温
<!--StartFragment-->フルオロカーボンガス凝縮層に低エネルギー電子ビームと準安定励起種を照射することにより、フッ素含有アモルファスカーボン（a-C:F）をSiおよび各種基板表上に極低温成膜した。本研究では、a-C:Fの光学特性、化学結合、Si基板への密着性、撥水性について報告する。<!--EndFragment-->