講演情報
[16p-P03-1]PECVD法による超はっ水性SiO:CH微粒子堆積膜の作製
〇西尾 舞雪1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大工、2.関東学院大)
キーワード：
プラズマCVD、有機基含有シリカ、プラズマ重合
プラズマ重合により表面微細凹凸構造を有するSiO:CH微粒子堆積膜を形成するプロセスが知られている．SiO:CH微粒子堆積膜の実用化に向けた課題点の一つに粒子間の結合が弱く微小な応力で膜が破壊されることがあげられる．そこで本研究では，水滴接触角150°以上の超はっ水性を実現するSiO:CH 微粒子堆積膜の機械的特性の向上を最終目標に，RF出力が膜質に及ぼす影響を調査することを目的とする．