セッション詳細

[16p-P03-1~2]8.3 プラズマナノテクノロジー

2025年3月16日(日) 13:30 〜 15:30
P03 (森戸記念体育館)

[16p-P03-1]PECVD法による超はっ水性SiO:CH微粒子堆積膜の作製

〇西尾 舞雪1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大工、2.関東学院大)

[16p-P03-2]次世代全固体LiB向けSiナノ粒子粒状電極の実装要件のSFE視座検討

〇神原 淳1、久徳 空1、萩原 翼1 (1.大阪大工)