2025年第72回応用物理学会春季学術講演会
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[16p-P07-5]
選択的イオン注入法によりクラック発生を抑制したPドープ歪みSiGe/Geの電気伝導特性
〇溝口 稜太
1
、長尾 優希
1
、武井 爽一郎
1
、奥谷 惇
1
、石橋 脩悟
1
、山田 道洋
1
、浜屋 宏平
2,3
、澤野 憲太郎
1
(1.都市大、2.阪大基礎工 CSRN、3.阪大 OTRI)
キーワード:
ゲルマニウム、移動度
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