講演情報

[16p-P07-5]選択的イオン注入法によりクラック発生を抑制したPドープ歪みSiGe/Geの電気伝導特性

〇溝口 稜太1、長尾 優希1、武井 爽一郎1、奥谷 惇1、石橋 脩悟1、山田 道洋1、浜屋 宏平2,3、澤野 憲太郎1 (1.都市大、2.阪大基礎工 CSRN、3.阪大 OTRI)

キーワード:

ゲルマニウム、移動度